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Isostatische Graphitstange der Klasse OCS-10 für die Halbleiterindustrie

Graphitblock der Klasse OCS-20 mit geringer thermischer Expansion für die Halbleiterindustrie

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Reinigte Graphitblöcke für die Silikonkarbidbeschichtung

Preis: USD 0.9/KG MOQ: 1000 kg

Massendichte	10,80 g/cm3
Druckfestigkeit	Mpa 100
Flexuralstärke	50 MPa
elektrischer Widerstand	11 bis 13 μΩ.m
Shorehärte	60 HSD

Reinigtes isostatisches Graphitmaterial für die Polycrystalline Siliziumzellenindustrie

Reinigtes isostatisches Graphitmaterial mit niedrigem Verunreinigungsgehalt für das Dauergusswerk

Graphitblock mit hoher Reinheit und niedrigem Aschegehalt für die Halbleiterindustrie

Reinigte Graphitblöcke für die Silikonkarbidbeschichtung

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